北京中藍(lán)天環(huán)保技術(shù)有限公司

一．旁流水處理器產(chǎn)品功能

中藍(lán)天旁流水處理器是針對各種循環(huán)水系統(tǒng)中普遍存在的四大問題：腐蝕、結(jié)垢、菌藻滋生以及水質(zhì)惡化等問題研制的綜合性水處理器，ZLT全程水處理器由單臺設(shè)備代替了需要多臺設(shè)備才能完成的處理過程，從而取代了傳統(tǒng)的處理方式。具有對水質(zhì)綜合優(yōu)化處理，防垢除垢、防腐除銹、殺菌滅藻、超凈過濾等功能。

還可以根據(jù)需要加裝紫外線消毒器，結(jié)合紫外線的強(qiáng)力殺菌、滅藻、消毒功能，彌補了射頻技術(shù)在高溫、高濕、水質(zhì)惡劣等環(huán)境下殺菌滅藻的不足之處。

二．旁流水處理器適用范圍

1．主要適用于循環(huán)水、自來水、地表水、地下水、海水、游泳池用水、熱水的水質(zhì)處理及控制；

2．適用于石油、輪胎、橡膠、化工、鋼鐵、發(fā)電、中央空調(diào)、采暖、地源熱泵、水源熱泵及其它工礦企業(yè)的循環(huán)水、源水及污水處理等。

三．旁流水處理器產(chǎn)品特點

1．結(jié)合射頻波技術(shù)、紫外線殺菌消毒功能。設(shè)備綜合性能遠(yuǎn)高于一般的“射頻水處理器”、“電子水處理器”及“磁水處理器”等。

2．各發(fā)射極利用差轉(zhuǎn)屏蔽效應(yīng)及多點陣列組合。相互之間無干擾，針對性強(qiáng)。

3．可實現(xiàn)全自動排污。并且可以在系統(tǒng)正常運行狀態(tài)下進(jìn)行排污和反洗，不影響系統(tǒng)的正常運行，有效控制濃縮比，降低運行費用，無需人工操作。

4．可配備水質(zhì)綜合檢測儀，對水質(zhì)進(jìn)行連續(xù)監(jiān)測、數(shù)字顯示。

四．旁流水處理器技術(shù)參數(shù)

1．處理效果

①.緩蝕率：≤0.092mm/a，管道的銹蝕速度降低至原來的1/10；

②.防垢、除垢率：≥95%；

③.殺菌率：≥95%；

④.滅藻率：≥95%；

⑤.過濾精度：可根據(jù)用戶需求選擇。

2．進(jìn)水要求

①.總硬度（以CaCO₃計）：≤800mg/L；

②.水溫：≤50℃（特殊情況可定制）；

③.流速：＞1m/s，≤2.8m/s。

3．工作環(huán)境參數(shù)

①.工作壓力：1.0MPa（1.6MPa、2.0MPa、2.5MPa可選）；

②.系統(tǒng)壓力：≥0.3MPa；

③.工作電壓：220v±10%/50Hz；

④.工作溫度：-25℃-95℃；

⑤.工作環(huán)境溫度：-25℃-50℃；

⑥.相對濕度：＜95%（溫度25℃時）；

⑦.輸出功率：50-1500w。

五．旁流水處理器工作原理

1．防垢除垢

由主機(jī)產(chǎn)生電磁場和超聲波作用于水系統(tǒng)管路上，使管道內(nèi)水分子產(chǎn)生共振，把氫鍵締合的水分子團(tuán)變成單個的極性，改變了水的活化性，這些極微小的水分子可以滲透、包圍、溶解、去除系統(tǒng)中的老垢提高了水分子對鈣鎂離子、碳酸根離子等成垢組分的水合能力，起到阻止水垢形成的作用。同時，在電磁場和超聲波的作用下，使原有的水垢結(jié)晶逐漸變得松軟、脫落、溶解，從而達(dá)到除垢之目的。

2．防腐防銹

氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕是水系統(tǒng)管道及設(shè)備腐蝕和生銹的主要原因，而在電磁場和超聲波的作用下，水垢得以控制和去除，溶解氧與水分子結(jié)合不易析出，從而抑制氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕的發(fā)生起到良好的防腐除銹的作用。

3．殺菌滅藻

電磁場在工作時產(chǎn)生微電子流使細(xì)菌、藻類賴以生存的環(huán)境被破壞，并且溶解氧在電磁場和超聲波的作用下形成一些如O₃、H₂O₂等對細(xì)菌、藻類具極強(qiáng)殺傷力的強(qiáng)氧化物質(zhì)，起到殺菌滅藻的作用。
其一：地球上的生物一般只適應(yīng)地區(qū)表面的電場強(qiáng)度（130V/m），該處理器改變電場強(qiáng)度，改變或影響細(xì)菌的生存代謝，如基因表達(dá)程序、酶活性等，后導(dǎo)致細(xì)菌死亡。

其二：細(xì)胞膜有許多對外聯(lián)系的離子通道，離子通道的調(diào)節(jié)直接影響細(xì)胞的功能和生命。處理器產(chǎn)生的外電場破壞了細(xì)胞膜上的離子通道，改變了調(diào)節(jié)細(xì)胞功能的內(nèi)控電流，影響細(xì)菌的生命。同時形成強(qiáng)電場產(chǎn)生的高速運動的電子將細(xì)胞致死，達(dá)到殺菌的目的。

其三：電場處理水過程中，溶解氧得到活化，超氧陰離子自由基、羥基自由基、、單線態(tài)氧等活性氧?；钚匝鯇ξ⑸餀C(jī)體產(chǎn)生作用，造成有機(jī)體衰老，直至死亡。

其四：對高溫、高濕及水質(zhì)惡劣的使用環(huán)境，對菌藻滋生等要求嚴(yán)格但又不能加藥處理時，如跟循環(huán)水直接接觸的輪胎等行業(yè)；增加“紫外線消毒器”，殺菌滅藻效果十分理想。

在普通“旁流水處理器”的設(shè)備本體上增加紫外殺菌、消毒裝置，實現(xiàn)了電磁場、超聲波和紫外線三種技術(shù)處理效果的疊加。

4．超凈過濾

其一：將系統(tǒng)監(jiān)測的結(jié)果輸入到控制系統(tǒng)，根據(jù)已經(jīng)設(shè)定的電導(dǎo)率、TDS實現(xiàn)智能化、科學(xué)化排污；

其二：多濾筒結(jié)構(gòu)；根據(jù)處理數(shù)量，濾筒數(shù)量為3-12個，實現(xiàn)在線反沖洗（過濾、反沖及排污同時進(jìn)行），可實現(xiàn)系統(tǒng)的連續(xù)運行，不需停機(jī)。

選型原則

根據(jù)設(shè)備安裝點的系統(tǒng)管徑選型。設(shè)備處理水量作為參考。

根據(jù)系統(tǒng)的水質(zhì)要求及過濾精度來選配控制類型。

設(shè)備的安裝必須考慮設(shè)備本體配電箱的位置、注意分清進(jìn)出水口方向，全自動型應(yīng)考慮控制柜的放置空間。

2．設(shè)備安裝

①.設(shè)備的安裝位置離冷卻設(shè)備越近，處理效果越佳；但離墻面、主體設(shè)備的距離宜大于400mm。

②.好為旁通式安裝，以滿足在不停機(jī)狀態(tài)下檢修設(shè)備及沖洗濾體的需要。

③.若全程水處理器的設(shè)備本體與控制箱要分體安裝，則設(shè)備本體與控制箱之間的距離一般不超過三米。

旁流水處理器安裝注意事項

1、為了便于設(shè)備安裝檢修，主體頂端與大外徑需與其他設(shè)備相距400mm以上。
2、禁止在無水狀態(tài)下開啟設(shè)備。
3、設(shè)備應(yīng)為旁通式安裝，以滿足檢修設(shè)備及反沖洗濾體的需要。
4、系統(tǒng)運行時當(dāng)進(jìn)出水口壓差達(dá)到0.03-0.06MPa，就應(yīng)進(jìn)行反沖洗，新系統(tǒng)初次使用時， 每8個小時反沖洗1-2次，正常運行后，視水質(zhì)情況而定。
5、反洗：打開旁通閥，關(guān)閉設(shè)備進(jìn)水閥及電源，打開排污閥，進(jìn)行反向沖洗濾體，時間為10～20秒左 右（視水質(zhì)而定）
6、當(dāng)進(jìn)出水口壓差恢復(fù)到原壓差值，關(guān)閉排污閥，開啟進(jìn)水閥，關(guān)閉旁通閥，接通220V電源，使設(shè)備正常工作。